Please use this identifier to cite or link to this item:
http://thuvienso.dut.udn.vn/handle/DUT/7220| Title: | Chế tạo vi mạch: Công nghệ in khắc nano sẽ soán ngôi công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại? | Authors: | Đặng, Lương Mô | Keywords: | Tạp chí Khoa học và Công nghệ Việt Nam - A | Issue Date: | 2024 | Series/Report no.: | Tạp chí Khoa học và Công nghệ Việt Nam - A - 2024 - Số 4A - tr. 55-55 | Abstract: | Hiện nay, trong chế tạo vi mạch, công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại (EUV) trong quy trình quang khắc (Lithography) đang chiếm địa vị “độc tôn”. Công ty ASML (Hà Lan) hiện là nhà cung cấp hàng đầu thế giới về thiết bị quang khắc cho ngành công nghiệp bán dẫn... |
URI: | http://thuvienso.dut.udn.vn/handle/DUT/7220 |
| Appears in Collections: | Tạp chí Khoa học và Công nghệ Việt Nam - A |
Files in This Item:
| File | Description | Size | Format | |
|---|---|---|---|---|
| BaiTapChi_VJ7WUPBX.pdf | 1.09 MB | Adobe PDF |  View online View/Open |
CORE Recommender
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.