Vui lòng dùng định danh này để trích dẫn hoặc liên kết đến tài liệu này:
http://thuvienso.dut.udn.vn/handle/DUT/7220| Nhan đề: | Chế tạo vi mạch: Công nghệ in khắc nano sẽ soán ngôi công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại? | Tác giả: | Đặng, Lương Mô | Từ khoá: | Tạp chí Khoa học và Công nghệ Việt Nam - A | Năm xuất bản: | 2024 | Tùng thư/Số báo cáo: | Tạp chí Khoa học và Công nghệ Việt Nam - A - 2024 - Số 4A - tr. 55-55 | Tóm tắt: | Hiện nay, trong chế tạo vi mạch, công nghệ phơi sáng dùng tia cực tử ngoại (EUV) trong quy trình quang khắc (Lithography) đang chiếm địa vị “độc tôn”. Công ty ASML (Hà Lan) hiện là nhà cung cấp hàng đầu thế giới về thiết bị quang khắc cho ngành công nghiệp bán dẫn... |
Định danh: | http://thuvienso.dut.udn.vn/handle/DUT/7220 |
| Bộ sưu tập: | Tạp chí Khoa học và Công nghệ Việt Nam - A |
Các tập tin trong tài liệu này:
| Tập tin | Mô tả | Kích thước | Định dạng | |
|---|---|---|---|---|
| BaiTapChi_VJ7WUPBX.pdf | 1.09 MB | Adobe PDF |  Xem trực tuyến Xem/Tải về |
Các đề xuất từ CORE
Khi sử dụng các tài liệu trong Hệ thống quản lý thông tin nghiên cứu phải tuân thủ Luật bản quyền.